EDI(Electrodeionization)是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。它巧妙的將電滲析和離子交換技術(shù)相結(jié)合，利用兩端電極高壓使水中帶電離子移動(dòng)，并配合離子交換樹(shù)脂及選擇性樹(shù)脂膜以加速離子移動(dòng)去除，從而達(dá)到水純化的目的。在EDI除鹽過(guò)程中，離子在電場(chǎng)作用下通過(guò)離子交換膜被清除。同時(shí)，水分子在電場(chǎng)作用下產(chǎn)生氫離子和氫氧根離子，這些離子對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行連續(xù)再生，以使離子交換樹(shù)脂保持良好狀態(tài)。

　　EDI設(shè)施的除鹽率可以高達(dá)99%以上，如果在EDI之前使用反滲透設(shè)備對(duì)水進(jìn)行初步除鹽，再經(jīng)EDI除鹽就可以生產(chǎn)出電阻率高達(dá)成15M .cm以上的超純水。

　　EDI 膜堆是由夾在兩個(gè)電極之間一定對(duì)數(shù)的單元組成。在每個(gè)單元內(nèi)有兩類不同的室：待除鹽的淡水室和收集所除去雜質(zhì)離子的濃水室。淡水室中用混勻的陽(yáng)、陰離子交換樹(shù)脂填滿，這些樹(shù)脂位于兩個(gè)膜之間：只允許陽(yáng)離子透過(guò)的陽(yáng)離子交換膜及只允許陰離子透過(guò)的陰離子交換膜。

　　樹(shù)脂床利用加在室兩端的直流電進(jìn)行連續(xù)地再生，電壓使進(jìn)水中的水分子分解成H+及OH-，水中的這些離子受相應(yīng)電極的吸引，穿過(guò)陽(yáng)、陰離子交換樹(shù)脂向所對(duì)應(yīng)膜的方向遷移，當(dāng)這些離子透過(guò)交換膜進(jìn)入濃室后，H+和OH-結(jié)合成水。這種H+和OH-的產(chǎn)生及遷移正是樹(shù)脂得以實(shí)現(xiàn)連續(xù)再生的機(jī)理。

　　當(dāng)進(jìn)水中的Na+及CI-等雜質(zhì)離子吸咐到相應(yīng)的離子交換樹(shù)脂上時(shí)，這些雜質(zhì)離子就會(huì)發(fā)生象普通混床內(nèi)一樣的離子交換反應(yīng)，并相應(yīng)地置換出 H+及 OH-。一旦在離子交換樹(shù)脂內(nèi)的雜質(zhì)離子也加入到H+及OH-向交換膜方向的遷移，這些離子將連續(xù)地穿過(guò)樹(shù)脂直至透過(guò)交換膜而進(jìn)入濃水室。這些雜質(zhì)離子由于相鄰隔室交換膜的阻擋作用而不能向?qū)��?yīng)電極的方向進(jìn)一步地遷移，因此雜質(zhì)離子得以集中到濃水室中，然后可將這種含有雜質(zhì)離子的濃水排出膜堆。

　　幾十年來(lái)純水的制備是以消耗大量的酸堿為代價(jià)的，酸堿在生產(chǎn)、運(yùn)輸、儲(chǔ)存和使用過(guò)程中，不可避免地會(huì)帶來(lái)對(duì)環(huán)境的污染，對(duì)設(shè)備的腐蝕，對(duì)人體可能的傷害以及維修費(fèi)用的居高不下。反滲透的使用大大減少了酸堿的用量，但是，還留著條?/span>尾巴?/span>。反滲透和電除鹽的廣泛使用，將會(huì)帶給純水制備一次產(chǎn)業(yè)性革命。

　　我公司生產(chǎn)的二級(jí)反滲透+EDI超純水設(shè)備，有多年的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，尤其在電控系統(tǒng)PLC方面在水處理行業(yè)技術(shù)都是比較成熟，我們也有做過(guò)很多各行業(yè)的水處理設(shè)備，這方面我們有豐富的經(jīng)驗(yàn)。我們公司做出來(lái)的設(shè)備質(zhì)量比他們都有優(yōu)勢(shì)，在國(guó)內(nèi)具有一定的市場(chǎng)竟?fàn)幜ΑＴ摦a(chǎn)品由于具備性能好、價(jià)格低于國(guó)外同類產(chǎn)品價(jià)格、供貨及時(shí)、售后服務(wù)方便快捷等諸多優(yōu)勢(shì)。在LED、LCD、光電光學(xué)企業(yè)的脫鹽水和超純水裝置，得到了業(yè)界的廣泛贊譽(yù)，歡迎廣大客戶前來(lái)參觀考察。

　　一、觸摸屏清洗用超純水設(shè)備需求要了解幾點(diǎn)內(nèi)容：

　　1、純水的產(chǎn)水量(按每小時(shí)計(jì)算)

　　2、純水要求的水質(zhì)(例如多少兆歐)

　　3、原水進(jìn)水水質(zhì)是什么水(例如自來(lái)水)

　　4、制作純水的工藝(工藝不一樣價(jià)格也不一樣)

　　5、用于生產(chǎn)什么產(chǎn)品(例如電池片)

　　6、配置的品牌及控制方式(PLC自動(dòng)控制，手動(dòng)控制)型號(hào)和數(shù)量等。

　　二、清洗要求：

　　LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。

　　三、EDI工藝：

　　預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級(jí)RO裝置→二級(jí)RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點(diǎn)